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該設備為我司研發用于石墨烯薄膜連續生長或者線性材料的連續的專用設備，此款設備是快速冷卻卷對卷等離子體增強CVD連續生長爐，它由高溫生長腔體，三路質量流量計氣路系統，真空機組，RF射頻電源模塊，石英管，冷卻裝置，收放卷的密封裝置，自動化控制系統組成，兩端分別安裝有進料進氣真空腔室和出料排氣真空腔室，收放密封裝置內分別對應安裝有放卷滾輪和收卷滾輪，所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對于現有技術具有快速冷卻、連續生長的優點，可以進行大面積、高質量石墨烯